磁控溅射镀膜仪

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收费标准

机时
0元/小时

设备型号

ATC-1800F

当前状态

管理员

admin 010-623333914

放置地点

学院、校区材料科学与工程学院主楼227
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名称

磁控溅射镀膜仪

资产编号

20064607

型号

ATC-1800F

规格

*

产地

美国

厂家

AJA

所属品牌

出产日期

2006-12-30

购买日期

2006-12-30

所属单位

材料科学与工程学院

使用性质

科研

所属分类

真空喷膜台和离子溅射台

资产负责人

--

联系电话

010-623333914

联系邮箱

*

放置地点

学院、校区材料科学与工程学院主楼227
  • 主要规格&技术指标
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  • 样本检测注意事项
  • 设备使用相关说明
  • 备注
主要规格&技术指标
1、主真空室的本底真空优于2×10-8Torr;2、四英寸的基片范围内薄膜厚度均匀性优于±2%;3、可以溅射磁性和非磁性金属、进行直流和射频溅射;4、基片可以加热(800℃)、冷却(水冷);5、全自动控制;6、18英寸主溅射室;7、高真空泵抽系统;8、超高真空磁控溅射靶;直流/射频电源;9、4英寸样品台;10、PhaseII-J控制系统。
主要功能及特色
纳米磁性薄膜制备设备,可以制备纳米磁性薄膜,能加热,共五个靶位。
样本检测注意事项
纳米磁性薄膜制备设备,可以制备纳米磁性薄膜,能加热,共五个靶位。
设备使用相关说明
工作日开放,提前预约
备注
视具体实验内容而定
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