离子束刻蚀系统

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收费标准

机时
0元/小时

设备型号

LKJ-1C-150I

当前状态

管理员

admin 010-623333914

放置地点

学院、校区材料科学与工程学院主楼227
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名称

离子束刻蚀系统

资产编号

20051997

型号

LKJ-1C-150I

规格

*

产地

中国

厂家

北京埃德万斯离子束技术研究所

所属品牌

出产日期

2005-08-30

购买日期

2005-08-30

所属单位

材料科学与工程学院

使用性质

科研

所属分类

反应离子刻蚀台

资产负责人

--

联系电话

010-623333914

联系邮箱

tengjiao@mater.ustb.edu.cn

放置地点

学院、校区材料科学与工程学院主楼227
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主要规格&技术指标
离子源口径:150mm;离子能量范围:0-800eV;工作离子能量范围:200-650eV;离子束流峰值密度:≥0.7;实用离子束密度:0.2-0.6;有效束径:≥100mm;系统极限压强:≤1*10-4Pa;系统工作本地压强:≤5*10-4Pa;氩气质量流量控制范围:0-10secm;准确度±15%、精度±0.2%;刻蚀角范围0-90°;刻蚀台自转速度:9rpm;刻蚀台表面温度:10℃-25℃
主要功能及特色
用于各种声、光、电特种器件的刻蚀,抛光,图形复印精度,取定研磨制造精度,分辨率优于0.5μm。
样本检测注意事项
用于各种声、光、电特种器件的刻蚀,抛光,图形复印精度,取定研磨制造精度,分辨率优于0.5μm。
设备使用相关说明
工作日开放,提前预约
备注
视具体实验内容而定
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