AXIS Ultra DLD X射线光电子能谱仪（XPS）

X-Ray Photoelectron Spectrometer

设备型号：AXIS Ultra DLD

设备简介:

该仪器的供应商为日本岛津集团的Kratos公司，产地英国。该仪器主要用固体样品表面和界面化学组成、化学元素像、化学价态、价带结构、晶体结构分析及深度剖析。可进行金属、合金中夹杂物成分分析，炉渣、矿相、材料中元素及其在体相中的深度分布分析等，能给出逐层元素变化的具体信息（包括价态、含量、分布及元素的图像）。适用于非放射性和非挥发性金属、合金等导体、半导体、绝缘体，粉末、薄膜等。

仪器特点：

AXIS Ultra DLD将Kratos专利的磁沉浸透镜和荷电中和系统与球镜分析器和同心半球分析器集成在一起，并组合了延迟线探测器（DLD）用于成像与采谱。半球分析器具有高能量分辨率高灵敏度的谱仪性能；延迟线检测器用于采谱和成像模式的光电子检测，可得到非扫描谱线；球镜分析器与脉冲计数DLD的最佳组合可提供表面化学图像，得到微米区域小束斑信息；荷电中和系统提供对绝缘材料的电荷补偿，通过低能电子防止表面损伤。

技术指标：

• 电子能量分析器：

类型： 180o半球和球镜组合

平均半径： 165mm

输入透镜：静电与专利磁透镜多组元组合

放大率： 可编程

检测器：带有128通道延迟线阳极的多通道板

• 分析器电子学

扫描模式：固定分析器传输-FAT，固定阻滞率-FRR(可选)、

能量范围：0-3200ev，0-1500ev（高分辨）

通能：可编程，5-320ev

阻滞率：可编程，3-14

极性：负（标准），正（标准）

• X射线源

能量范围：1-15KV

靶（阳极）：双阳极（标准）

靶材料：Mg/Al（其他可选）

功率：最大0.60kw

靶冷却：可选循环水冷

安全锁：压力，真空，冷却水流量

• 分析室

类型：球型，不锈钢，23个窗口，15个指向分析点，267mm直径

磁屏蔽：双层μ金属

超高真空规：冷阴极规

真空度：7×10-8Pa，2×10-8Pa（可选）

真空自锁：电源，真空，水冷

烘烤：内置加热器和绝缘毯，带定时器

• 样品操控

样品台：XYZθ（自动/手动）

样品个数：1/10/可变

样品移动（手动台）：X：-10~+15mm，Y/Z：±10mm

样品移动（自动台）：X：150mm，Y/Z：±7.5mm

样品倾转：±180o（手动），±90o（自动）

• 电子源（可选）

能量：10kev

发射：Schottky场发射

工作距离：26mm

聚焦：袖珍3透镜静电

像散校正器：8极

偏转：静电

放大率：×25-150000

二次电子检测器：闪烁器，光子倍增器

• 单色器

尺寸：500mm罗兰圆

晶体：石英

功率：最大0.60kw

• 灵敏度

单色化Al靶：大束斑—0.48 eV @ 400 kcps (Ag 3d5/2)；15μm束斑—0.48 eV @ 650 cps (Ag 3d5/2) 

非单色化Mg靶： 大束斑—0.8 eV @ 1100 kcps (Ag 3d5/2)

束斑直径400μm - 1.5 mm可调

具备平行成像、扫描成像功能，能够提供256×256像素、空间分辨率小于3μm的高分辨率图像；深度剖析离子枪离子能量100 eV–4 keV连续可调。

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