场发射电子探针显微分析系统
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收费标准
机时登录后查看 -
设备型号
EPMA-8050G -
当前状态
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管理员
衣凤 15810863676 -
放置地点
直属部门新金属材料国家重点实验室主楼170
- 仪器信息
- 预约资源
- 附件下载
- 公告
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名称
场发射电子探针显微分析系统
资产编号
S2303954
型号
EPMA-8050G
规格
产地
日本
厂家
日本岛津
所属品牌
岛津SHIMADZU
出产日期
购买日期
所属单位
新金属材料全国重点实验室
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
衣凤
联系电话
15810863676
联系邮箱
yifeng@ustb.edu.cn
放置地点
直属部门新金属材料国家重点实验室主楼170
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
主要规格&技术指标
发射源：肖特基发射体
X射线取出角：52.5°
元素探测范围：5B～92U
加速电压：0.5～30kV
二次电子分辨率：3nm（30kV）
物镜光阑：固定式（无需切换）
束流：0.2nA~3μA（30KV）
探针电流稳定性： ±0.3%/h以下（10KV、50nA）
放大倍数： ×40～400,000
最大样品尺寸：100mm×100mm×50mm
X射线取出角：52.5°
元素探测范围：5B～92U
加速电压：0.5～30kV
二次电子分辨率：3nm（30kV）
物镜光阑：固定式（无需切换）
束流：0.2nA~3μA（30KV）
探针电流稳定性： ±0.3%/h以下（10KV、50nA）
放大倍数： ×40～400,000
最大样品尺寸：100mm×100mm×50mm
主要功能及特色
非破坏性重复分析
精细结构分析
纳米尺度的空间分辨分析
高准确性定量分析
高准确性轻元素分析
高敏感性微量元素探测
X射线临近光谱的高分辨能力
元素的定性分析
元素的定量分析
元素的线分布分析
元素的面分布分析
精细结构分析
纳米尺度的空间分辨分析
高准确性定量分析
高准确性轻元素分析
高敏感性微量元素探测
X射线临近光谱的高分辨能力
元素的定性分析
元素的定量分析
元素的线分布分析
元素的面分布分析
样本检测注意事项
电子探针(EPMA)试样要求
最大试样尺寸:Φ25mmX15mm，如有其它特殊尺寸，可详细咨询。
试样表面必须磨平抛光、清洗干净(机械抛光、振动抛光均可，可以轻微腐蚀或电解抛光)。要求分析面水平，尽量上下表面平行。
试样要有良好的导电性和导热性，且必须是在高能电子轰击下物理和化学性能稳定的固体、不分解、不爆炸、不挥发、无放射性、无磁性。
易受磁样品原则上不保证测试结果，样品尺寸限制在5 mm X 5 mm厚度小于2 mm。
试样在光学显微镜下能找到50umX50μm大小的无凹坑或划痕的区域。有机物镶嵌的样品需要喷碳或喷金。
定量分析试样需要有微米尺度的成分均匀区域，尽量喷涂碳膜
最大试样尺寸:Φ25mmX15mm，如有其它特殊尺寸，可详细咨询。
试样表面必须磨平抛光、清洗干净(机械抛光、振动抛光均可，可以轻微腐蚀或电解抛光)。要求分析面水平，尽量上下表面平行。
试样要有良好的导电性和导热性，且必须是在高能电子轰击下物理和化学性能稳定的固体、不分解、不爆炸、不挥发、无放射性、无磁性。
易受磁样品原则上不保证测试结果，样品尺寸限制在5 mm X 5 mm厚度小于2 mm。
试样在光学显微镜下能找到50umX50μm大小的无凹坑或划痕的区域。有机物镶嵌的样品需要喷碳或喷金。
定量分析试样需要有微米尺度的成分均匀区域，尽量喷涂碳膜
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